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后曝光氮氣烘箱，PEB無塵烘箱所使用的高溫（100-130°C）會使光敏化合物擴散，從而消除駐波波紋.百級潔凈度無塵化，專用于半導(dǎo)體，集成電路。

聚酰亞胺PI無氧烘箱，氮氣亞胺化烘箱應(yīng)用于精密電子元件、PI、CPI/PBO/LCP/BCB膠高溫固化烘烤、銀膠固化、光刻膠固化、電子陶瓷材料無塵烘干的特殊工藝要求。

氮氣烘箱，掩膜板烘箱在掩膜版的生產(chǎn)制造過程中，掩膜版基板在光阻涂布后會有一個烘烤的環(huán)節(jié)，又稱為前烘。

水冷無氧化烘箱，高溫?zé)o氧烘箱升溫方式：程序線性升溫 降溫方式：風(fēng)冷+水冷輔助降溫 氧含量：氧含量≤20ppm

真空無氧烤箱，無氧化真空烘箱用于光刻膠BCB，聚酰亞胺PI/CPI固化，BPO固化，LCP纖維熱處理，

前烘氮氣烘箱，硬烘潔凈烘箱優(yōu)化光刻膠的光學(xué)吸收特性，提高光刻膠對襯底的黏附性

外延片烘箱，氮氣潔凈烘箱延片將所述外延片放入烘箱中,在120℃～140℃的溫度下,將所述外延片烘烤10～30分鐘